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GaAs 砷化镓衬底晶片
砷化镓(GaAs)是一种性能优良的半导体材料,具有直接带隙、电子迁移率高、高频低噪声、转换效率高等特点。我们可提供使用VGF法生长的的1-8英寸的砷化镓衬底,包括半绝缘砷化镓衬底(非掺)和半导体砷化镓衬底(掺Si、掺Zn)。
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InP 磷化铟衬底晶片
磷化铟(InP)是重要的III-V族化合物半导体之一,具有电子迁移率高、耐辐射性能好、禁带宽度大等优点。我们可提供使用VGF法生长2-6 英寸磷化铟(InP)衬底,包括半绝缘InP衬底(掺Fe)和半导体InP衬底(掺Si或掺Zn),以及用于特定用途的低位错InP衬底。
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Ge 锗衬底晶片
锗单晶片是重要的半导体衬底材料,有着良好的半导体性质,如电子迁移率、空穴迁移率等。我们可提供直径为2-8英寸的低位错或零位错锗(Ge)衬底,其电阻率在0.005 Ω•cm~50Ω•cm范围。
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蓝宝石衬底晶片
全面引进吸收原Honeywell衬底切割、磨抛和检测技术,拥有成熟的2、4、6、8寸蓝宝石衬底加工工艺
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